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共聚焦高精度三維顯微鏡

產品簡介

自設計之初,VT6000共聚焦高精度三維顯微鏡便定下了“簡單好用"四字方針的目標。儀器采用自研的電動鼻輪塔臺,并對軟件防撞設置與硬件傳感器防撞設置功能進行了優化,確保共聚焦顯微鏡在使用高倍物鏡僅不到1mm的工作距離時也能應對。

產品型號:VT6100
更新時間:2025-04-07
廠商性質:生產廠家
訪問量:1081
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中圖儀器VT6000系列共聚焦高精度三維顯微鏡基于光學共軛共焦原理,結合精密縱向掃描,以在樣品表面進行快速點掃描并逐層獲取不同高度處清晰焦點并重建出3D真彩圖像,從而進行分析的精密光學儀器,一般用于略粗糙度的工件表面的微觀形貌檢測,可分析粗糙度、凹坑瑕疵、溝槽等參數。

共聚焦高精度三維顯微鏡

產品功能

(1)設備具備表征微觀形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能;

(2)設備具備自動拼接功能,能夠快速實現大區域的拼接縫合測量;

(3)設備具備一體化操作的測量與分析軟件,預先設置好配置參數再進行測量,軟件自動統計測量數據并提供數據報表導出功能,即可快速實現批量測量功能;

(4)設備具備調整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數據處理功能;

(5)設備具備粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;

(6)設備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能,可實現批量數據文件的快速分析功能;


功能特點

1、測量模式多樣

單區域、多區域、拼接、自動測量等多種測量模式可選擇,適應多種現場應用環境;

2、雙重防撞保護功能

Z軸上裝有防撞機械電子傳感器、軟件ZSTOP防撞保護功能,雙重保護;

3、分析功能豐富

3D:表面粗糙度、平整度、孔洞體積、幾何曲面、紋理方向、PSD等分析;

2D:剖面粗糙度、幾何輪廓測量、頻率、孔洞體積、Abbott參數等分析。

共聚焦高精度三維顯微鏡

應用場景

1、鐳射槽

測量晶圓上激光鐳射槽的深度:半導體后道制造中,在將晶圓分割成一片片的小芯片前,需要對晶圓進行橫縱方向的切割,為確保減少切割引發的崩邊損失,會先采用激光切割機在晶圓表面燒蝕出U型或W型的引導槽,在工藝上需要對引導槽的槽型深寬尺寸進行檢測。

共聚焦高精度三維顯微鏡

2、光伏

在太陽能電池制作工程中,柵線的高寬比決定了電池板的遮光損耗及導電能力,直接影響著太陽能電池的性能。VT6000光伏檢測儀器3D顯微鏡輪廓儀可以對柵線進行快速檢測。此外,太陽能電池制作過程中,制絨作為關鍵核心工藝,金字塔結構的質量影像減反射焰光效果,是光電轉換效率的重要決定因素。共聚焦顯微鏡具有納米級別的縱向分辨能力,能夠對電池板絨面這種表面反射率低且形貌復雜的樣品進行三維形貌重建。

共聚焦高精度三維顯微鏡

3、其他

共聚焦高精度三維顯微鏡


自設計之初,VT6000共聚焦高精度三維顯微鏡便定下了“簡單好用"四字方針的目標。

1)結構簡單:儀器整體由一臺輕量化的設備主機和電腦構成,控制單元集成在設備主機之內,亦可采用筆記本電腦驅動,實現了“拎著走"的便攜式設計;

2)真彩圖像:配備了真彩相機并提供還原的3D真彩圖像,對細節的展現纖毫畢現;

3)操作便捷:采用全電動化設計,并可無縫銜接位移軸與掃描軸的切換,圖像視窗和分析視窗同界面的設計風格,實現了所見即所得的快速檢測效果;

4)采用自研的電動鼻輪塔臺,并對軟件防撞設置與硬件傳感器防撞設置功能進行了優化,確保共聚焦顯微鏡在使用高倍物鏡僅不到1mm的工作距離時也能應對。


VT6000共聚焦顯微鏡擅長微納級粗糙輪廓的檢測,可廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測,對大坡度的產品有更好的成像效果,在滿足精度的情況下使用場景更具有兼容性。可廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業及航空航天、科研院所等領域中??蓽y各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等,提供依據ISO/ASME/EUR/GBT四大國內外標準共計300余種2D、3D參數作為評價標準。

共聚焦高精度三維顯微鏡

部分技術指標

型號VT6100


行程范圍

X100mm
Y100mm
Z100mm
外形尺寸
520*380*600mm
儀器重量50kg
測量原理共聚焦光學系統
顯微物鏡10×;20×;50×;100×
視場范圍120×120 μm~1.2×1.2 mm
高度測量
寬度測量
XY位移平臺負載10kg
控制方式電動
Z0軸掃描范圍10mm
物鏡塔臺5孔電動
光源白光LED

懇請注意:因市場發展和產品開發的需要,本產品資料中有關內容可能會根據實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解

如有疑問或需要更多詳細信息,請隨時聯系中圖儀器咨詢。



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